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半導(dǎo)體零部件

我們?yōu)槟峁┌雽?dǎo)體設(shè)備的核心零部件，包括但不限于質(zhì)量流量控制器(MFC)、噴淋頭、加熱器、腔體、靜電卡盤、碳化硅部件、特種陶瓷制品、射頻電源、真空泵和閥門、波紋管、非接觸輻射高溫計(jì)等，此外我們還可提供專業(yè)的氣路解決方案。

質(zhì)量流量控制器MFC

質(zhì)量流量控制器MFC

MFC是一種自動(dòng)監(jiān)測(cè)、測(cè)量和控制氣體流量的緊湊型設(shè)備，由比例調(diào)節(jié)閥門、質(zhì)量流量計(jì)和控制器（信號(hào)放大校準(zhǔn)、PID控制與通訊電路）相結(jié)合的裝置。我們的產(chǎn)品不僅有獨(dú)特的雙閥設(shè)計(jì)，可通過(guò)對(duì)照表和壓力降來(lái)對(duì)流量進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和更正，還有經(jīng)典的熱式、改進(jìn)的壓力式產(chǎn)品，能覆蓋各行業(yè)客戶的不同需求。我們的產(chǎn)品可以應(yīng)用在晶圓制程的沉積、蝕刻、清洗、離子注入、金屬布線、擴(kuò)散等工藝中，同時(shí)也廣泛應(yīng)用于光纖、科學(xué)儀器、鍍膜等行業(yè)。
壓力控制器PC

壓力控制器PC

在半導(dǎo)體制造中，壓力控制器是保障工藝精度的關(guān)鍵元件。它被安裝在氣體或液體反應(yīng)腔室的管路中，持續(xù)監(jiān)測(cè)并反饋制程壓力信號(hào)至控制系統(tǒng)。通過(guò)實(shí)時(shí)精準(zhǔn)的壓力控制,它能確?？涛g、薄膜沉積等核心工藝在穩(wěn)定、一致的壓力環(huán)境下進(jìn)行從而直接提升晶圓生產(chǎn)的均勻性、良率與可靠性。
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流量比例控制器FRC

流量比例控制器FRC

先導(dǎo)元?jiǎng)?chuàng)的流量比例控制器使用特殊的控制閥來(lái)提高晶圓的一致性和晶圓與晶圓間的一致性。這是目前行業(yè)內(nèi)響應(yīng)最快的流量比例控制器，響應(yīng)時(shí)間小于 1秒。
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六元合金環(huán)

六元合金環(huán)

六元合金環(huán)采用 Paliney-7 材料，高強(qiáng)度、高硬度、彈性好、接觸電阻低且穩(wěn)定廣泛用于印刷電路的滑動(dòng)接點(diǎn)和低壓直流回路的開關(guān)接點(diǎn)?？膳c大多數(shù)電位計(jì)繞組及貴金屬滑環(huán)匹配，耐磨性好，噪音電平低，是一種理想的輕負(fù)荷彈性接點(diǎn)材料。
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IGS氣路模塊

IGS氣路模塊

IGS（Integrated Gas System）Block 是半導(dǎo)體制造氣體輸送系統(tǒng)的核心。它采用金屬密封技術(shù)，實(shí)現(xiàn)超高純度控制，并遵循 SEMI 標(biāo)準(zhǔn)，具備模塊化設(shè)計(jì)的靈活性，可為半導(dǎo)體、光伏等行業(yè)提供穩(wěn)定、高效且可定制的氣路解決方案。先導(dǎo)元?jiǎng)?chuàng)憑借其在超純氣體精密加工領(lǐng)域的深厚積累，通過(guò)嚴(yán)格的工藝控制與全程材料追溯體系，致力于保障交付的每一件模塊產(chǎn)品均具備卓越與可靠的性能。
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噴淋頭

噴淋頭

噴淋頭在晶片反應(yīng)中起著直接作用，負(fù)責(zé)將外部反應(yīng)氣體均勻引入腔室，在晶片上形成一致的涂層。特殊工藝氣體通過(guò)噴淋頭的小孔均勻地沉積在晶片表面，確保晶片表面膜層的均勻性和一致性。隨著芯片進(jìn)入高工藝階段，對(duì)設(shè)備顆?？刂频囊笠苍絹?lái)越嚴(yán)格。顆粒的大小和數(shù)量已成為清潔工作的重中之重。因此，打孔精度、孔內(nèi)毛刺去除及表面處理是生產(chǎn)噴淋頭的主要技術(shù)壁壘。
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金屬加熱器

金屬加熱器

金屬加熱器旨在為晶圓組件提供溫度場(chǎng)，并直接參與晶圓反應(yīng)。對(duì)溫度均勻性、清潔度和密封性能的要求非常高，通常位于設(shè)備的反應(yīng)腔內(nèi)。
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腔體

腔體

腔體是半導(dǎo)體設(shè)備中參與晶圓制備反應(yīng)工序的關(guān)鍵部件，為晶圓生產(chǎn)提供耐腐蝕、潔凈和高真空環(huán)境，是提供工藝反應(yīng)場(chǎng)景的核心容器，其密封性良好與否對(duì)系統(tǒng)是否滿足所需條件起關(guān)鍵性作用。
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靜電卡盤ESC

靜電卡盤ESC

靜電卡盤是一種利用靜電吸附原理固定晶圓的裝置，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、平板顯示、LED 等領(lǐng)域。我們的靜電卡盤采用高性能陶瓷材料，具有優(yōu)異的導(dǎo)熱性、絕緣性和耐腐蝕性。
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陶瓷加熱盤Heater

陶瓷加熱盤Heater

專為半導(dǎo)體前道制程設(shè)計(jì)的陶瓷加熱盤，是ICP/CCP Etch、CVD、SACVD等核心工藝設(shè)備的理想選擇。通過(guò)精準(zhǔn)調(diào)控輸入功率與流體參數(shù)，它能夠在嚴(yán)苛的工藝環(huán)境中提供卓越的溫度均勻性與控制精度，助力客戶實(shí)現(xiàn)更優(yōu)的工藝一致性、穩(wěn)定性與重復(fù)性，為芯片制造良率提升提供可靠保障。
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多晶碳化硅制品

多晶碳化硅制品

碳化硅聚焦環(huán)是用于半導(dǎo)體刻蝕工藝的關(guān)鍵部件，其作用是聚焦等離子體，提高刻蝕速率和均勻性，并保護(hù)腔體及刻蝕設(shè)備。我們的碳化硅聚焦環(huán)采用高純度碳化硅材料，具有優(yōu)異的耐等離子體腐蝕性能和高溫穩(wěn)定性。
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多晶透明氧化鋁陶瓷片

多晶透明氧化鋁陶瓷片

本產(chǎn)品覆蓋藍(lán)寶石片與多晶透明氧化鋁片兩大先進(jìn)材料體系，為您的精密應(yīng)用提供靈活、可靠的理想選擇。
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各類陶瓷結(jié)構(gòu)件

各類陶瓷結(jié)構(gòu)件

提供氧化鋁陶瓷結(jié)構(gòu)件與氧化釔陶瓷結(jié)構(gòu)件。氧化鋁陶瓷結(jié)構(gòu)件具有高絕緣性能、優(yōu)異的熱穩(wěn)定性、機(jī)械強(qiáng)度與耐磨性。氧化釔陶瓷結(jié)構(gòu)件具備卓越的耐等離子體腐蝕能力與高溫穩(wěn)定性。適用于半導(dǎo)體前道制程設(shè)備，提升工藝一致性與設(shè)備可靠性。
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EPD-OES方案

EPD-OES方案

EPD-OES 發(fā)射光譜終點(diǎn)檢測(cè)方案基于光學(xué)發(fā)射光譜法原理，通過(guò)分析刻蝕、腔室清洗、去膠等過(guò)程中反應(yīng)物或生成物的特征光譜強(qiáng)度變化來(lái)判斷是否到達(dá)刻蝕終點(diǎn)。方案可集成到等離子體加工設(shè)備上，作為監(jiān)測(cè)和控制工藝過(guò)程的關(guān)鍵手段。采用模塊化設(shè)計(jì)，根據(jù)客戶使用需求配置單通道、雙通道或多通道模式。
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真空成分分析儀VGCA

真空成分分析儀VGCA

先導(dǎo)元?jiǎng)?chuàng)真空成分分析儀 VGCA 利用等離子發(fā)射光譜技術(shù)，通過(guò)傳感器頭部產(chǎn)生微小等離子體，并由內(nèi)置光譜儀進(jìn)行氣體分析。系統(tǒng)自動(dòng)解析光譜信息，可對(duì)真空環(huán)境中的氣體存在狀態(tài)及濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)。該傳感器無(wú)需配備昂貴的差分抽氣系統(tǒng)，可在寬泛的壓力范圍內(nèi)生成等離子體。設(shè)備堅(jiān)固耐用，維護(hù)簡(jiǎn)單，能夠同時(shí)監(jiān)測(cè)真空腔室內(nèi) 20多種氣體，功能涵蓋:寬量程壓力測(cè)量;泄漏檢測(cè);真空質(zhì)量監(jiān)測(cè);工藝抽真空過(guò)程分析;氣體分子成分分析;設(shè)備狀態(tài)監(jiān)控與故障預(yù)警;工藝終點(diǎn)判定;氣體流量標(biāo)定及組分比例分析等。
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IEP激光干涉測(cè)厚儀

IEP激光干涉測(cè)厚儀

IEP（Interferometric Endpoint）干涉法終點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)通過(guò)監(jiān)測(cè)晶圓表面被刻蝕膜層的厚度變化來(lái)判斷是否到達(dá)刻蝕終點(diǎn)。系統(tǒng)包含采集干涉光譜的邏輯和計(jì)算膜厚判斷終點(diǎn)的算法，集成到等離子體刻蝕設(shè)備上，作為監(jiān)測(cè)和控制工藝過(guò)程的關(guān)鍵手段。
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非接觸式測(cè)溫解決方案

非接觸式測(cè)溫解決方案

我們提供完整的非接觸式測(cè)溫解決方案，包含兩款專業(yè)產(chǎn)品：低溫測(cè)溫計(jì)VSI PL0814T 采用先進(jìn)的軟、硬件設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)小巧，是一款非常適用于非金屬或具備穩(wěn)定氧化物涂層；嵌入式高精度高溫計(jì)VSI POF1550T 為大批量的半導(dǎo)體和薄膜應(yīng)用而設(shè)計(jì)?？梢园凑沾郎y(cè)物的材料屬性和測(cè)溫范圍配置不同的波長(zhǎng)，提供符合用戶應(yīng)用場(chǎng)景需求的定制化解決方案。
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MOCVD原位監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

MOCVD原位監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

VSI Link RTC-100 三位一體，集成了高溫計(jì)、反射率計(jì)和翹曲率計(jì)，可實(shí)現(xiàn)溫度測(cè)量和加熱控制、薄膜厚度和生長(zhǎng)速率測(cè)量、材料應(yīng)力及翹曲測(cè)量等功能。在 MOCVD外延生長(zhǎng)過(guò)程中，VSI Link RTC-100對(duì)生長(zhǎng)的各種參數(shù)和設(shè)備狀況進(jìn)行原位實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和控制,以便有效實(shí)現(xiàn)外延生長(zhǎng)，避免廢品，提高重現(xiàn)性和設(shè)備效能。
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電容式真空計(jì)

電容式真空計(jì)

先導(dǎo)元?jiǎng)?chuàng)電容式真空計(jì)（MC300 系列）是一款絕壓型真空計(jì)，利用金屬隔膜與固定電極之間的電容變化來(lái)測(cè)量氣體壓力。該產(chǎn)品能夠精確測(cè)量腔體氣體壓力，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏等領(lǐng)域，是制程工藝壓力測(cè)量不可或缺的測(cè)量?jī)x器。
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RGA殘余氣體分析儀

RGA殘余氣體分析儀

VSI RGA 憑借精準(zhǔn)測(cè)量與智能分析，操作簡(jiǎn)便，實(shí)時(shí)同步數(shù)據(jù)。
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、科研及真空工藝，是保障真空系統(tǒng)潔凈與高效運(yùn)行的理想工具。
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高精度射頻功率計(jì)

高精度射頻功率計(jì)

先導(dǎo)元?jiǎng)?chuàng)高精度射頻功率計(jì)，由精密射頻功率傳感器與多功能功率顯示器集成而成，專為半導(dǎo)體加工等要求嚴(yán)苛的場(chǎng)景打造，提供實(shí)驗(yàn)室級(jí)的射頻功率測(cè)量解決方案。系統(tǒng)核心的傳感器能有效消除幅度調(diào)制與諧波干擾，確保在指定頻率與功率范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高達(dá) ±1% 的測(cè)量精度。與之配套的顯示器則直觀呈現(xiàn)正向與反射功率、回波損耗等關(guān)鍵參數(shù)，實(shí)現(xiàn)對(duì)射頻系統(tǒng)實(shí)時(shí)工況的精準(zhǔn)監(jiān)控。
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桌面式橢偏儀

桌面式橢偏儀

橢偏儀可同時(shí)測(cè)定薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)(如折射率和消光系數(shù)等)，適合測(cè)量的膜厚范圍廣，可測(cè)量多層薄膜，已成為半導(dǎo)體工業(yè)測(cè)量薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)儀器。
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ICP-OES/MS 常用消耗品和備件

ICP-OES/MS 常用消耗品和備件

我們?yōu)镮CP-OES/MS系統(tǒng)提供全套常用消耗品與核心備件，產(chǎn)品線涵蓋霧化器、霧化室、炬管以及采樣錐/截取錐等關(guān)鍵部件。憑借穩(wěn)定的性能與嚴(yán)格的質(zhì)量控制，確保您的分析設(shè)備持續(xù)獲得準(zhǔn)確、可靠的數(shù)據(jù)支持。
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超高壓汞燈

超高壓汞燈

超高壓汞燈有著特殊的光譜特性、極高的亮度和穩(wěn)定的紫外光輸出，在半導(dǎo)體光刻、顯示面板光刻、PCB 曝光領(lǐng)域中有著十分重要的應(yīng)用。先導(dǎo)元?jiǎng)?chuàng)自研的超高壓汞燈產(chǎn)品系列全，從低功率到高功率全覆蓋（75w-16000W) ，匹配各類光刻和曝光設(shè)備。
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微波電源

微波電源

915MHz 75kW的微波電源已經(jīng)通過(guò)了工藝測(cè)試,在批量生產(chǎn)中。先導(dǎo)的微波
電源能媲美MKS的微波電源。可根據(jù)客戶需求,定制915MHz 30kW~100kW
的產(chǎn)品,2.45GHz的微波電源也在開發(fā)中。廣泛應(yīng)用在MPCVD、加熱解凍干
燥、石英提純、醫(yī)療度棄物處理,半導(dǎo)體等領(lǐng)域。
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靜電卡盤電源

靜電卡盤電源

靜電卡盤（Electrostatic Chuck, ESC）是半導(dǎo)體制造、平板顯示（FPD）和光伏設(shè)備中的關(guān)鍵部件，用于在真空環(huán)境下通過(guò)靜電力固定晶圓或玻璃基板。靜電卡盤電源（ESC PS）是為 ESC 提供高精度直流或脈沖電壓的核心組件，其性能直接影響工藝穩(wěn)定性和良率。先導(dǎo)元?jiǎng)?chuàng)靜電卡盤電源（ESC PS）利用絕緣柵雙極型晶體管 （ IGBT）驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)三相六極的高壓輸出，施加到靜電卡盤（Electrostatic Chuck, ESC）電極，實(shí)現(xiàn)晶圓的吸附和釋放，可通過(guò)高壓電容反饋監(jiān)測(cè)晶圓的吸附效果。
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射頻電源

射頻電源

先導(dǎo)元?jiǎng)?chuàng)自研射頻電源產(chǎn)品線豐富，覆蓋400KHZ~60MHz等頻率，功率等級(jí):600W~30kW，可根據(jù)用戶需求，靈活定制具備 CW、ON/OFF脈沖、H/L脈沖、多節(jié)脈沖，AFT/DFT掃頻算法，實(shí)時(shí)功率和負(fù)載阻抗測(cè)量應(yīng)用于等離子刻蝕、PECVD、射頻濺射、平行板、射頻激光、IPC/RIE/CVD/PVD 等半導(dǎo)體及太陽(yáng)能薄膜的典型工藝。
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半導(dǎo)體水浴恒溫槽

半導(dǎo)體水浴恒溫槽

VMS - TEB - ***L 系列的半導(dǎo)體水浴恒溫槽整機(jī)采用先進(jìn)的內(nèi)循環(huán) / 外循環(huán)泵系統(tǒng)。內(nèi)循環(huán)通過(guò)半導(dǎo)體制冷器和先進(jìn)的 PID 控溫程序保證內(nèi)腔溫度均勻恒定，外循環(huán)泵可以把槽內(nèi)恒溫液體的熱量引到第二恒溫場(chǎng)。產(chǎn)品采用高亮 SUS304 不銹鋼結(jié)構(gòu)，具備高耐蝕性，更適用潔凈室使用；該系列產(chǎn)品具有較高的 COP，高，低功耗，高性能，控制精度高，內(nèi)置液檢測(cè)開關(guān)及多種報(bào)警裝置，安全耐用，運(yùn)行數(shù)據(jù)和報(bào)警信息可以同步上傳到 PC 系統(tǒng)。
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