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鋯鉿產(chǎn)品

在現(xiàn)代材料科學(xué)與工業(yè)應(yīng)用的前沿領(lǐng)域,鋯鉿產(chǎn)品系列正發(fā)揮著舉足輕重的作用。這些產(chǎn)品以其卓越的屬性、廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域以及先進(jìn)的技術(shù),成為推動(dòng)眾多行業(yè)進(jìn)步的關(guān)鍵力量。

電子級(jí)四氯化鉿(HfCl?)

電子級(jí)四氯化鉿(HfCl?)

應(yīng)用:主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造工藝中的原子層沉積(ALD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)過程。

化學(xué)式:HfCl?
純度:99.95%
形狀:顆粒、粉末
外觀:白色
熔點(diǎn):319℃
理論密度:3.46g/cm3
高純鉿(Hf)

高純鉿(Hf)

應(yīng)用:在航空航天領(lǐng)域,高純鉿被廣泛用于制造航空發(fā)動(dòng)機(jī)的高溫部件,如燃燒室、渦輪葉片等。此外,在電子器件領(lǐng)域,高純鉿還可用于制造高性能的電子元器件,如高可靠性的電阻器、電容器等,為電子設(shè)備的小型化、高性能化提供支持。

化學(xué)式:Hf
純度:核級(jí)99.5%和電子級(jí)99.95%
形狀:金屬晶體
外觀:銀灰色
熔點(diǎn):約2227℃
理論密度:13.31g/cm3
高純氧氯化鋯(ZrOCl?·8H?O)

高純氧氯化鋯(ZrOCl?·8H?O)

應(yīng)用:高純氧氯化鋯是制備高性能陶瓷材料的重要原料,廣泛應(yīng)用于電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、生物陶瓷等領(lǐng)域。此外,在催化劑領(lǐng)域,高純氧氯化鋯也可作為催化劑載體或活性組分,用于石油化工、有機(jī)合成等化學(xué)反應(yīng)中,提高反應(yīng)的選擇性和催化效率。

化學(xué)式:ZrOCl?·8H?O
純度:ZrO?≥35%
形狀:針狀晶體
外觀:白色
熔點(diǎn):400℃
理論密度:1.91g/cm3
核級(jí)氫氧化鋯(Zr(OH)?)

核級(jí)氫氧化鋯(Zr(OH)?)

應(yīng)用:主要應(yīng)用于核反應(yīng)堆的堆芯結(jié)構(gòu)材料、核燃料包殼材料和核廢料處理領(lǐng)域。

化學(xué)式:Zr(OH)?
純度:ZrO?≥76.5%,含水量≤5%
形狀:無毒、無味固體粉末
外觀:白色
熔點(diǎn):550℃開始分解
理論密度:3.25g/cm3
核級(jí)氫氧化鉿(Hf(OH)?)

核級(jí)氫氧化鉿(Hf(OH)?)

應(yīng)用:在核工業(yè)中,核級(jí)氫氧化鉿主要用于制造核反應(yīng)堆的控制棒驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)等關(guān)鍵部件。

化學(xué)式:Hf(OH)?
純度:Hf≥71%,含水量≤5%
形狀:無毒、無味固體粉末
外觀:白色
熔點(diǎn):未知
理論密度:未知
核級(jí)氧化鋯(ZrO?)

核級(jí)氧化鋯(ZrO?)

應(yīng)用:在核反應(yīng)堆中,核級(jí)氧化鋯是制造堆芯結(jié)構(gòu)部件和燃料包殼的理想材料。此外,在核廢料處理領(lǐng)域,核級(jí)氧化鋯也可用于制備固化核廢料的陶瓷材料。

化學(xué)式:ZrO?
純度:≥99%
形狀:無臭無味晶體
外觀:白色
熔點(diǎn):2700℃
理論密度:5.85g/cm3
精四氯化鋯(ZrCl?)

精四氯化鋯(ZrCl?)

應(yīng)用:在鋯化合物的生產(chǎn)中,精四氯化鋯通過進(jìn)一步的化學(xué)反應(yīng)可以制備出多種鋯產(chǎn)品,如氧化鋯、氫氧化鋯、碳酸鋯等。在陶瓷行業(yè),它可用于制備陶瓷色料和釉料。此外,在金屬表面處理領(lǐng)域,精四氯化鋯可用于制備金屬鋯涂層,提高金屬材料的耐腐蝕性和耐磨性。

化學(xué)式:ZrCl?
純度:Zr≥37.5%
形狀:結(jié)晶或粉末
外觀:白色有光澤
熔點(diǎn):約437℃
理論密度:2.8g/cm3
氧化鉿(HfO?)

氧化鉿(HfO?)

應(yīng)用:在光學(xué)領(lǐng)域,氧化鉿可用于制造各種光學(xué)鏡片、濾光片、反射鏡等光學(xué)元件。在電子領(lǐng)域,氧化鉿可用于制造新型的場效應(yīng)晶體管(FET)和動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)等電子器件。

化學(xué)式:HfO?
純度:核級(jí)98%和電子級(jí)99.95%
形狀:無臭無味晶體
外觀:白色
熔點(diǎn):約2850℃
理論密度:9.68g/cm3
氧氯化鉿(HfOCl?·8H?O)

氧氯化鉿(HfOCl?·8H?O)

應(yīng)用:在鉿化合物的制備過程中,氧氯化鉿可通過進(jìn)一步的化學(xué)反應(yīng)制備出高純鉿、氧化鉿等多種鉿產(chǎn)品。在表面處理領(lǐng)域,氧氯化鉿可用于金屬表面的處理工藝,廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車制造等行業(yè)。

化學(xué)式:HfOCl?·8H?O
純度:≥98.5%
形狀:針狀晶體
外觀:白色
熔點(diǎn):未知
理論密度:2.2g/cm3

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