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電子特氣用于半導(dǎo)體加工制造,例如薄膜沉積 - 包括化學(xué)氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)。我們提供高品質(zhì)的電子氣體,應(yīng)用于LED制造,光伏太陽(yáng)能,光纖和微電子器件。

砷烷

砷烷

砷烷應(yīng)用于泛半導(dǎo)體行業(yè),作為外延硅的N型摻雜、擴(kuò)散、離子注入、生長(zhǎng)砷化鎵(GaAs)等化合物半導(dǎo)體的關(guān)鍵電子特氣。
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磷烷

磷烷

磷烷是一種易燃的劇毒氣體。用于半導(dǎo)體材料制備;襯底/外延、離子注入和摻雜;用于有機(jī)合成,制備磷的有機(jī)化合物等。
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硒化氫

硒化氫

硒化氫是一種可燃的有毒氣體。用于泛半導(dǎo)體行業(yè);是制作紅外材料(硒化鋅等)的關(guān)鍵原料。
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鍺烷

鍺烷

鍺烷是一種可燃的有毒氣體。制取高純度鍺;應(yīng)用于泛半導(dǎo)體摻雜及金屬有機(jī)化合物氣相沉積(MOCVD)鍍膜工藝;是太陽(yáng)能電池的重要原料電子特氣。
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乙硼烷

乙硼烷

乙硼烷是一種可燃的有毒氣體。用作制取高純度硼;是半導(dǎo)體行業(yè)的摻雜、外延生長(zhǎng)、擴(kuò)散和離子注入等的關(guān)鍵特氣原料;應(yīng)用于火箭和導(dǎo)彈的高能燃料、制藥、金屬焊接和有機(jī)合成等領(lǐng)域。
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甲硅烷

甲硅烷

甲硅烷是一種可燃的有毒氣體。硅產(chǎn)業(yè)鏈中的應(yīng)用最廣泛關(guān)鍵產(chǎn)品之一, 用作多晶硅/單晶硅制備, 硅基薄膜沉積;廣泛應(yīng)用于泛半導(dǎo)體行業(yè)。
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三氟化氮

三氟化氮

三氟化氮是一種可燃的有毒氣體。作為高溫室效應(yīng)的氟化電子特氣, 廣泛應(yīng)用于電子行業(yè)的干法刻蝕,晶圓表面清洗, 工藝腔室刻蝕清潔;是目前光伏/顯示/半導(dǎo)體制造中最重要的特氣之一。
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三氯化硼

三氯化硼

三氯化硼是一種可燃的有毒氣體。應(yīng)用于泛半導(dǎo)體行業(yè),是刻蝕、清洗和摻雜等工藝關(guān)鍵電子特氣;三氯化硼還廣泛用于有機(jī)合成和催化反應(yīng)。
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四氯硅烷

四氯硅烷

制取高純硅、硅酸乙酯等;外延硅蝕刻氣;制備熔融石英纖維。
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