電子科技事業(yè)部致力于真空鍍膜材料和真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和回收。材料產(chǎn)品系列包括高純金屬、合金、貴金屬及陶瓷材料所制成的靶材、錠、顆粒及粉末，被廣泛應(yīng)用于新型顯示、光伏、半導體、汽車電子、精密光學、數(shù)據(jù)存儲、玻璃等領(lǐng)域。我們在廣東清遠、安徽合肥、江蘇徐州、山東淄博、云南昆明、韓國、美國、德國、新加坡等地均有研發(fā)制造基地。
我們專注于為全球顯示行業(yè)客戶提供高品質(zhì)、高性能的ITO和IGZO靶材，同時還提供鉬靶（Mo）、鋁靶（Al）、銅靶（Cu）、鈦靶（Ti）等高質(zhì)量的配套金屬靶材，可應(yīng)用于LCD、觸摸傳感器、筆記本電腦電磁干擾涂層、手機后蓋漸變、可穿戴設(shè)備硬質(zhì)涂層等。
我們生產(chǎn)可用于太陽能電池的全系列高質(zhì)量PVD濺射靶材和蒸發(fā)材料， 我們的碲化鎘靶材（CdTe）、氧化銦錫靶材（ITO）、銅銦鎵硒靶材（CIGS）在全球光伏行業(yè)具有很高的知名度，同時也提供硒化鎘（CdSe）、碲鋅鎘（CdZnTe）、硫化鎘（CdS）等其他配套靶材和銅（Cu）、銦（In）、鎵（Ga）、硒（Se）和碲（Te）等高純蒸發(fā)材料。
用于集成電路的濺射靶材是一種被廣泛運用于半導體芯片制造不可或缺的材料，可用于前段的制程例如制造源極元件、柵極、金屬層及金屬互聯(lián)等，以及后段鍵合。我們自主回收和加工原材料， 通過成熟的提純、熔化、鑄造、鍛軋和綁定等工藝，直接控制有可能對PVD工藝產(chǎn)生影響的因素，確保材料純度、晶粒尺寸、均勻性等符合PVD工藝的要求。
物理氣相沉積（PVD）蒸發(fā)鍍膜一直是光學鍍膜的主流技術(shù)。 隨著用于醫(yī)療、國防和商業(yè)用途的光學濾光片涂層要求越來越高，轉(zhuǎn)為傾向于使用光學監(jiān)控濺射沉積技術(shù)。我們自主回收和加工原材料， 通過成熟的提純、熔化、鑄造、鍛軋和綁定等工藝，直接控制有可能對PVD工藝產(chǎn)生影響的因素，確保材料純度、晶粒尺寸、均勻性等符合PVD工藝的要求。
LED產(chǎn)業(yè)已經(jīng)發(fā)展非常成熟，制造商致力于尋求創(chuàng)新的解決方案，以提高性能并降低成本，從而實現(xiàn)新的應(yīng)用領(lǐng)域。我司具有獨特的優(yōu)勢來支持這項技術(shù)的革新。我們?yōu)長ED芯片企業(yè)提供正負電極所需要的高品質(zhì)成膜材料，包括高純金屬蒸發(fā)顆粒和濺射靶材（鋁（Al）、鈦（Ti）、鎳（Ni）、銀（Ag）、金（Au）、鉑（Pt）、鎢（W）、鎢鈦（WTi）），以及用于增透擴散層透明導電材料（ITO、IWO 等）。
磁數(shù)據(jù)存儲是一種便攜式存儲介質(zhì)，可提供計算機內(nèi)部和外部的存儲接口。
我司2018年收購Hereaus在新加坡的部分業(yè)務(wù)，目前已開發(fā)并提供了應(yīng)用于MDS的高度先進材料解決方案。
作為磁控數(shù)據(jù)存儲行業(yè)的主要供應(yīng)商，我司提供濺射靶和蒸發(fā)材料。作為先進材料解決方案供應(yīng)商，我們擁有廣泛的專業(yè)知識，涵蓋冶金和生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。我們?yōu)楦鞣N磁數(shù)據(jù)存儲應(yīng)用提供廣泛的目標材料，包括各類貴金屬（鉑、鉑合金、鉑氧化物、釕、釕合金、釕氧化物）及非貴金屬合金。
相關(guān)產(chǎn)品：濺射靶材
電致變色玻璃， 通過在玻璃基板上沉積ITO、氧化物和相變材料，可以根據(jù)環(huán)境條件調(diào)整光線的透過率，實現(xiàn)對玻璃的智能化控制， 可應(yīng)用于汽車玻璃等。我們可為玻璃行業(yè)客戶提供鍍膜用高品質(zhì)濺射靶材，如ITO靶、銀靶、硅鋁靶、銦錫靶、釕靶、鉻靶、鉬靶等。
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