電子科技事業(yè)部

電子科技事業(yè)部致力于真空鍍膜材料和真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和回收。材料產(chǎn)品系列包括高純金屬、合金、貴金屬及陶瓷材料所制成的靶材、錠、顆粒及粉末，被廣泛應(yīng)用于新型顯示、光伏、半導(dǎo)體、汽車電子、精密光學(xué)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、玻璃等領(lǐng)域。我們?cè)趶V東清遠(yuǎn)、安徽合肥、江蘇徐州、山東淄博、云南昆明、韓國(guó)、美國(guó)、德國(guó)、新加坡等地均有研發(fā)制造基地。

行業(yè)應(yīng)用

顯示

我們專注于為全球顯示行業(yè)客戶提供高品質(zhì)、高性能的ITO和IGZO靶材，同時(shí)還提供鉬靶（Mo）、鋁靶（Al）、銅靶（Cu）、鈦靶（Ti）等高質(zhì)量的配套金屬靶材，可應(yīng)用于LCD、觸摸傳感器、筆記本電腦電磁干擾涂層、手機(jī)后蓋漸變、可穿戴設(shè)備硬質(zhì)涂層等。

光伏

我們生產(chǎn)可用于太陽能電池的全系列高質(zhì)量PVD濺射靶材和蒸發(fā)材料，我們的碲化鎘靶材（CdTe）、氧化銦錫靶材（ITO）、銅銦鎵硒靶材（CIGS）在全球光伏行業(yè)具有很高的知名度，同時(shí)也提供硒化鎘（CdSe）、碲鋅鎘（CdZnTe）、硫化鎘（CdS）等其他配套靶材和銅（Cu）、銦（In）、鎵（Ga）、硒（Se）和碲（Te）等高純蒸發(fā)材料。

半導(dǎo)體

用于集成電路的濺射靶材是一種被廣泛運(yùn)用于半導(dǎo)體芯片制造不可或缺的材料，可用于前段的制程例如制造源極元件、柵極、金屬層及金屬互聯(lián)等，以及后段鍵合。我們自主回收和加工原材料，通過成熟的提純、熔化、鑄造、鍛軋和綁定等工藝，直接控制有可能對(duì)PVD工藝產(chǎn)生影響的因素，確保材料純度、晶粒尺寸、均勻性等符合PVD工藝的要求。

精密光學(xué)

物理氣相沉積（PVD）蒸發(fā)鍍膜一直是光學(xué)鍍膜的主流技術(shù)。隨著用于醫(yī)療、國(guó)防和商業(yè)用途的光學(xué)濾光片涂層要求越來越高，轉(zhuǎn)為傾向于使用光學(xué)監(jiān)控濺射沉積技術(shù)。我們自主回收和加工原材料，通過成熟的提純、熔化、鑄造、鍛軋和綁定等工藝，直接控制有可能對(duì)PVD工藝產(chǎn)生影響的因素，確保材料純度、晶粒尺寸、均勻性等符合PVD工藝的要求。

LED

LED產(chǎn)業(yè)已經(jīng)發(fā)展非常成熟，制造商致力于尋求創(chuàng)新的解決方案，以提高性能并降低成本，從而實(shí)現(xiàn)新的應(yīng)用領(lǐng)域。我司具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)來支持這項(xiàng)技術(shù)的革新。我們?yōu)長(zhǎng)ED芯片企業(yè)提供正負(fù)電極所需要的高品質(zhì)成膜材料，包括高純金屬蒸發(fā)顆粒和濺射靶材（鋁（Al）、鈦（Ti）、鎳（Ni）、銀（Ag）、金（Au）、鉑（Pt）、鎢（W）、鎢鈦（WTi），以及用于增透擴(kuò)散層透明導(dǎo)電材料（ITO、IWO 等）。

磁數(shù)據(jù)存儲(chǔ) (MDS)

磁數(shù)據(jù)存儲(chǔ)是一種便攜式存儲(chǔ)介質(zhì)，可提供計(jì)算機(jī)內(nèi)部和外部的存儲(chǔ)接口。

我司2018年收購(gòu)Hereaus在新加坡的部分業(yè)務(wù)，目前已開發(fā)并提供了應(yīng)用于MDS的高度先進(jìn)材料解決方案。
作為磁控?cái)?shù)據(jù)存儲(chǔ)行業(yè)的主要供應(yīng)商，我司提供濺射靶和蒸發(fā)材料。作為先進(jìn)材料解決方案供應(yīng)商，我們擁有廣泛的專業(yè)知識(shí)，涵蓋冶金和生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。我們?yōu)楦鞣N磁數(shù)據(jù)存儲(chǔ)應(yīng)用提供廣泛的目標(biāo)材料，包括各類貴金屬（鉑、鉑合金、鉑氧化物、釕、釕合金、釕氧化物）及非貴金屬合金。

相關(guān)產(chǎn)品：濺射靶材

玻璃

電致變色玻璃，通過在玻璃基板上沉積ITO、氧化物和相變材料，可以根據(jù)環(huán)境條件調(diào)整光線的透過率，實(shí)現(xiàn)對(duì)玻璃的智能化控制，可應(yīng)用于汽車玻璃等。我們可為玻璃行業(yè)客戶提供鍍膜用高品質(zhì)濺射靶材，如ITO靶、銀靶、硅鋁靶、銦錫靶、釕靶、鉻靶、鉬靶等。