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真空鍍膜設(shè)備


我們致力于薄膜技術(shù)開發(fā)、真空工藝設(shè)備研發(fā)、濺射靶材制造和相關(guān)服務(wù),包括鍍膜打樣、膜系開發(fā)等。主要的業(yè)務(wù)為設(shè)計和組裝薄膜沉積設(shè)備,我們建設(shè)的先進裝備制造線包括枚葉式設(shè)備(FHR.Star系列)、?式鍍膜設(shè)備(FHR.Boxx系列)、?鍍膜效率的連續(xù)式鍍膜設(shè)備(FHR.Line系列)、以及?型的創(chuàng)新式卷對卷鍍膜設(shè)備(FHR.Roll系列)。應(yīng)用于薄膜太陽能電池、新型顯示、汽車、MEMS傳感器、光學(xué)、濾波器和裝飾等領(lǐng)域。


我們可以為您的真空鍍膜設(shè)備提供技術(shù)支持、技術(shù)培訓(xùn)、預(yù)防性維護、備件/磨損件、資格認(rèn)證、技術(shù)評估,例如幫您判斷現(xiàn)有系統(tǒng)的運作狀況。我們還可以為您的機器(甚至是第三方系統(tǒng))提供搬遷、升級和現(xiàn)代化(改造)服務(wù)。

枚葉式設(shè)備(FHR.Star系列)

枚葉式設(shè)備(FHR.Star系列)

●應(yīng)用于小規(guī)模、試生產(chǎn)或研發(fā)領(lǐng)域,適于硅片類基材表面沉積、去除或改性的工藝設(shè)備
●基于靈活的模塊化設(shè)計理念
●可整合多種技術(shù)工藝
●標(biāo)準(zhǔn)用于半導(dǎo)體硅片處理
鼓式鍍膜設(shè)備(FHR.Boxx系列)

鼓式鍍膜設(shè)備(FHR.Boxx系列)

●適于小批量生產(chǎn)的單腔室濺射設(shè)備
●適于三維基材以及面積最大200 x 200 mm2的平面基材
●用于多層膜組沉積的磁控濺射設(shè)備
●配置等離子刻蝕基片預(yù)處理工藝
高鍍膜效率的連續(xù)式鍍膜設(shè)備(FHR.Line系列)

高鍍膜效率的連續(xù)式鍍膜設(shè)備(FHR.Line系列)

●工業(yè)級生產(chǎn)設(shè)備、高產(chǎn)能試驗線或研發(fā)型設(shè)備
●單向或雙向(往復(fù))基片傳輸方式
●支持正面和背面同時鍍膜
●可集成多種工藝技術(shù)
●可選立式或臥式設(shè)計
大型的創(chuàng)新式卷對卷鍍膜設(shè)備(FHR.Roll系列)

大型的創(chuàng)新式卷對卷鍍膜設(shè)備(FHR.Roll系列)

●研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域柔性電子和薄膜太陽能電池膜層制備
●配備邊緣控制功能的精確機械卷繞裝置
●制備柔性薄膜太陽能電池、隔熱膜和印刷電路版
●免觸式設(shè)計避免與正面膜層直接接觸
●適于便攜、輕便及柔性應(yīng)用領(lǐng)域
FHR.Star-EOSS?精密光學(xué)

FHR.Star-EOSS®精密光學(xué)

●適于高精密光學(xué)膜層沉積的工業(yè)級磁控濺射設(shè)備
●基材表面絕佳的膜厚均勻性
●向上濺射型構(gòu)造保障膜層低雜質(zhì)含量
●應(yīng)用旋轉(zhuǎn)靶材延長靶材服役壽命
原子層沉積設(shè)備

原子層沉積設(shè)備

●ALD –?原子層沉積
●循環(huán)CVD工藝
●精確控制高保形膜層的膜厚
●適于半導(dǎo)體電子和光學(xué)領(lǐng)域

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