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真空鍍膜設(shè)備

我們致力于薄膜技術(shù)開(kāi)發(fā)、真空工藝設(shè)備研發(fā)、濺射靶材制造和相關(guān)服務(wù)，包括鍍膜打樣、膜系開(kāi)發(fā)等。主要的業(yè)務(wù)為設(shè)計(jì)和組裝薄膜沉積設(shè)備，我們建設(shè)的先進(jìn)裝備制造線包括枚葉式設(shè)備（FHR.Star系列）、?式鍍膜設(shè)備（FHR.Boxx系列）、?鍍膜效率的連續(xù)式鍍膜設(shè)備（FHR.Line系列）、以及?型的創(chuàng)新式卷對(duì)卷鍍膜設(shè)備（FHR.Roll系列）。應(yīng)用于薄膜太陽(yáng)能電池、新型顯示、汽車(chē)、MEMS傳感器、光學(xué)、濾波器和裝飾等領(lǐng)域。

我們可以為您的真空鍍膜設(shè)備提供技術(shù)支持、技術(shù)培訓(xùn)、預(yù)防性維護(hù)、備件/磨損件、資格認(rèn)證、技術(shù)評(píng)估，例如幫您判斷現(xiàn)有系統(tǒng)的運(yùn)作狀況。我們還可以為您的機(jī)器（甚至是第三方系統(tǒng)）提供搬遷、升級(jí)和現(xiàn)代化（改造）服務(wù)。

枚葉式設(shè)備（FHR.Star系列）

●應(yīng)用于小規(guī)模、試生產(chǎn)或研發(fā)領(lǐng)域，適于硅片類(lèi)基材表面沉積、去除或改性的工藝設(shè)備
●基于靈活的模塊化設(shè)計(jì)理念
●可整合多種技術(shù)工藝
●標(biāo)準(zhǔn)用于半導(dǎo)體硅片處理

鼓式鍍膜設(shè)備（FHR.Boxx系列）

●適于小批量生產(chǎn)的單腔室濺射設(shè)備
●適于三維基材以及面積最大200 x 200 mm2的平面基材
●用于多層膜組沉積的磁控濺射設(shè)備
●配置等離子刻蝕基片預(yù)處理工藝

高鍍膜效率的連續(xù)式鍍膜設(shè)備（FHR.Line系列）

●工業(yè)級(jí)生產(chǎn)設(shè)備、高產(chǎn)能試驗(yàn)線或研發(fā)型設(shè)備
●單向或雙向(往復(fù))基片傳輸方式
●支持正面和背面同時(shí)鍍膜
●可集成多種工藝技術(shù)
●可選立式或臥式設(shè)計(jì)

大型的創(chuàng)新式卷對(duì)卷鍍膜設(shè)備（FHR.Roll系列）

●研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域柔性電子和薄膜太陽(yáng)能電池膜層制備
●配備邊緣控制功能的精確機(jī)械卷繞裝置
●制備柔性薄膜太陽(yáng)能電池、隔熱膜和印刷電路版
●免觸式設(shè)計(jì)避免與正面膜層直接接觸
●適于便攜、輕便及柔性應(yīng)用領(lǐng)域