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真空鍍膜設備


我們致力于薄膜技術開發(fā)、真空工藝設備研發(fā)、濺射靶材制造和相關服務,包括鍍膜打樣、膜系開發(fā)等。主要的業(yè)務為設計和組裝薄膜沉積設備,我們建設的先進裝備制造線包括枚葉式設備(FHR.Star系列)、?式鍍膜設備(FHR.Boxx系列)、?鍍膜效率的連續(xù)式鍍膜設備(FHR.Line系列)、以及?型的創(chuàng)新式卷對卷鍍膜設備(FHR.Roll系列)。應用于薄膜太陽能電池、新型顯示、汽車、MEMS傳感器、光學、濾波器和裝飾等領域。


我們可以為您的真空鍍膜設備提供技術支持、技術培訓、預防性維護、備件/磨損件、資格認證、技術評估,例如幫您判斷現(xiàn)有系統(tǒng)的運作狀況。我們還可以為您的機器(甚至是第三方系統(tǒng))提供搬遷、升級和現(xiàn)代化(改造)服務。

枚葉式設備(FHR.Star系列)

枚葉式設備(FHR.Star系列)

●應用于小規(guī)模、試生產或研發(fā)領域,適于硅片類基材表面沉積、去除或改性的工藝設備
●基于靈活的模塊化設計理念
●可整合多種技術工藝
●標準用于半導體硅片處理
鼓式鍍膜設備(FHR.Boxx系列)

鼓式鍍膜設備(FHR.Boxx系列)

●適于小批量生產的單腔室濺射設備
●適于三維基材以及面積最大200 x 200 mm2的平面基材
●用于多層膜組沉積的磁控濺射設備
●配置等離子刻蝕基片預處理工藝
高鍍膜效率的連續(xù)式鍍膜設備(FHR.Line系列)

高鍍膜效率的連續(xù)式鍍膜設備(FHR.Line系列)

●工業(yè)級生產設備、高產能試驗線或研發(fā)型設備
●單向或雙向(往復)基片傳輸方式
●支持正面和背面同時鍍膜
●可集成多種工藝技術
●可選立式或臥式設計
大型的創(chuàng)新式卷對卷鍍膜設備(FHR.Roll系列)

大型的創(chuàng)新式卷對卷鍍膜設備(FHR.Roll系列)

●研發(fā)和生產領域柔性電子和薄膜太陽能電池膜層制備
●配備邊緣控制功能的精確機械卷繞裝置
●制備柔性薄膜太陽能電池、隔熱膜和印刷電路版
●免觸式設計避免與正面膜層直接接觸
●適于便攜、輕便及柔性應用領域
FHR.Star-EOSS?精密光學

FHR.Star-EOSS®精密光學

●適于高精密光學膜層沉積的工業(yè)級磁控濺射設備
●基材表面絕佳的膜厚均勻性
●向上濺射型構造保障膜層低雜質含量
●應用旋轉靶材延長靶材服役壽命
原子層沉積設備

原子層沉積設備

●ALD –?原子層沉積
●循環(huán)CVD工藝
●精確控制高保形膜層的膜厚
●適于半導體電子和光學領域

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